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行业动态
半导体CVD工艺专用H2氢气传感器-抗腐蚀/温湿度-深国安
半导体CVD工艺专用H2氢气传感器行业背景：
在半导体 CVD 工艺中，氢气作为还原气与载气，需面对硅烷、氨气等腐蚀性气体侵蚀，以及 300-1000℃高温、95% 高湿的复杂环境，传统氢气传感器常因腐蚀失效、温湿度漂移、频繁标定停机等问题影响工艺稳定性。深国安SGA-700系列H2氢气传感器专门针对半导体化学气相沉积(CVD)工艺场景研发的一款高精度H2氢气检测�？椋芬� “抗恶劣环境 + 低运维成本” 为核心，集成抗腐蚀 / 温湿度、多信号输出、免标定三大优势，为 3nm-90nm 先进制程 CVD 设备提供长效可靠的氢气监测。
半导体CVD工艺专用H2氢气传感器采用改性催化燃烧传感芯片，芯片表面涂覆纳米级 PTFE 防腐涂层，可耐受硅烷、氨气等腐蚀性气体侵蚀，在 CVD 工艺典型环境中使用寿命延长至 24 个月，较传统传感器提升 1 倍。半导体CVD工艺专用H2氢气传感器内置高精度温湿度补偿模块，在 - 40℃~120℃温度、0-99% RH 湿度区间，检测误差≤±2% FS，数据漂移≤±0.5%/24h，彻底解决高温高湿导致的监测偏差问题，适配低压 CVD(LPCVD)与常压 CVD(APCVD)全场景。
在信号输出方面，半导体CVD工艺专用H2氢气传感器支持0-5V、TTL、4-20mA 模拟信号、RS485(Modbus 协议)、LoRa 无线传输等多种模式，可灵活对接 CVD 腔体 PLC 系统、车间 DCS 系统及 SGA-IoT 物联网平台，满足不同规模产线的数据传输需求。当氢气浓度超 1% LEL(低报)、5% LEL(中报)、10% LEL(高报)阈值时，可同步输出报警信号，联动切断气源、启动氮气吹扫，形成安全闭环。
半导体CVD工艺专用H2氢气传感器出厂已标气校准，用户购买后，不需要二次任何开发或标定操作，可直接采集信号上传控制主机、PLC等系统应用，非常方便快捷、节约成本。半导体CVD工艺专用H2氢气传感器内置AI自适应算法实现，传感器可实时自主校准零点与量程，结合内置的标准气校准模型，无需人工定期通入标准气标定，每年减少 3-4 次停机维护，单条 12 英寸 CVD 产线年均节省运维成本超 8 万元。目前该传感器已通过CT4防爆认证与 Class 5 洁净标准测试，在多家半导体企业产线应用中，实现连续 18 个月无故障运行，氢气泄漏响应时间≤1.2 秒，为 CVD 工艺氢气监测提供高效低耗的解决方案。
产品特点
● 可对应上百种可燃及有毒气体;
● 本质安全型电路设计，安全可靠;
● 市面上微小型气体传感器模组，直径仅有33.5mm;
● 专业精选、原装进口，兼容红外、电化学、催化、半导体等多种传感器;
● 自带温度补偿，出厂精准标定，使用时无需再标定;
● 电压和串口同时输出特点，方便客户调试及使用;
● 简化的外围电路，生产简单、操作方便;
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