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行业动态
半导体金属清洗去除工艺专用-高精度HCI盐酸检测仪-深国安
半导体金属清洗去除工艺高精度HCI盐酸检测仪应用背景：
在半导体金属清洗去除工艺里，盐酸是常用的清洗试剂。盐酸具有强腐蚀性，其挥发出的氯化氢气体对人体呼吸道、眼睛和皮肤等有严重刺激和损害作用。同时，在工艺环境中，若氯化氢气体浓度过高，达到一定范围，遇到火源还可能引发爆炸等危险情况，影响工艺的正常进行、人员安全以及产品质量。所以，使用高精度HCI盐酸检测仪进行实时监测，及时发现盐酸泄漏或浓度异常情况，对于保障工艺安全至关重要。
金属清洗工艺中，HCl 泄漏多为微量挥发(初期浓度常低于 0.5ppm)，但需在达到腐蚀阈值前及时预警。半导体金属清洗去除工艺专用SGA-500HCI盐酸检测仪采用进口电化学传感技术 ，常规检测范围覆盖0-5ppm(适配职业接触限值与设备腐蚀阈值)，最低分辨率达 0.001ppm，检测误差≤±0.5% F.S，可精准识别 0.1ppm 的微量 HCl 蒸汽;T90 响应时间≤8 秒，比国产电化学传感器快 25%，能快速捕捉清洗槽密封盖松动、管路接头微漏等问题，避免 HCl 蒸汽长期累积导致设备腐蚀或晶圆缺陷。
金属清洗车间存在盐酸喷淋、酸雾挥发的强酸性环境，常规检测仪易因外壳、气路腐蚀失效。半导体金属清洗去除工艺专用SGA-500HCI盐酸检测仪采用316L不锈钢材质设计，外壳防护等级高达IP67，耐盐酸腐蚀等级达 99.9%(浸泡在 37% 盐酸中 72 小时无变形、无渗漏);采样管路与传感器腔体选用镍铬钼合金，可耐受浓度≤40% 的盐酸长期接触，避免气路被腐蚀穿孔导致检测失效;同时传感器探头内置聚四氟乙烯(PTFE)防护膜，防止盐酸液滴直接接触传感器，进一步提升设备耐腐蚀性，适配强酸性工艺环境。
金属清洗工艺中，盐酸常与氢氟酸(HF)、双氧水(H?O?)、氨水(NH?)等试剂混合使用(如 HCl-H?O?混合液用于金属离子去除)，常规检测仪易受其他试剂蒸汽干扰导致数据失真。半导体金属清洗去除工艺专用SGA-500HCI盐酸检测仪采用温湿度抗干扰技术解决这一问题：内置智能干扰补偿算法，通过识别不同试剂的电化学信号特征，自动抵消氨水等碱性气体对检测结果的影响，确保在多试剂共存环境中，HCl 检测数据准确率仍保持 99.5% 以上，避免误报、漏报。
半导体金属清洗去除工艺专用SGA-500HCI盐酸检测仪可以根据用户需求定制1-6种气体组合，气体种类不限，检测量程不限，采样方式不限，并支持选配温湿度检测功能。SGA-500HCI盐酸检测仪采用工业级外观设计,严格遵照GB50493-2009《石油化工可燃气体和有毒气体检测报警设计规范》研发生产，并取得相关的CPA型式批准证书、国家防爆证和第三方计量证书和外观专利证书。
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